화장품 R&D 지원으로 중국 NMPA 원료 등록 쾌거

한농화성 ‘PEG-2 Phenyl Ether’ 국산 원료로는 3번째 등록

문상록 기자 mir1967@cmn.co.kr [기사입력 : 2025-02-05 오후 12:54:38]

  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지


[CMN 문상록 기자] 정부의 화장품 R&D 지원으로 중국 국가의약품감독관리국(NMPA) 원료 등록에 성공했다.

화장품 원료기업인 (주)한농화성이 지난해 12월 20일 중국 화장품 신원료 등록을 성공적으로 완료했다. 등록된 원료는 ‘PEG-2 Phenyl Ether(제품명: HK-PHDG)’.

‘PEG-2 Phenyl Ether’는 용매 기능을 가진 유형2 저위험군 원료로 한농화성은 PEG-2 Phenyl Ether의 용매 역할을 기술적으로 입증하며 안전성 및 효능 데이터 자료와 등록 요건을 확보해 중국 및 글로벌 시장 진출의 발판을 마련했다.

2021년 5월 1일부터 운영된 중국 화장품 신원료 제도 운영 이후 중·저위험군 원료는 현재까지 약 200여개가 등록된 것으로 알려졌으며 고위험군 원료는 미백원료 Thiamidol이 유일하게 승인된 상태다.

PEG-2 Phenyl Ether 등록 이전까지 국내 기업이 등록한 원료는 단 2건이었으며 이 중 1건은 자진 철회한 것으로 알려졌다. 따라서 PEG-2 Phenyl Ether는 국산 원료로는 3번째 등록이며 현재 등록된 2개 원료 중 하나다.



이번 신원료 등록은 보건복지부 ‘혁신성장 피부건강 기반기술 개발사업’ 지원으로 이루어진 쾌거로 알려졌다. 이번 사업의 주관기관인 피부기반기술개발사업단(사업단장 황재성)의 적극적인 지원에 의해서 이루어낸 성과로 피부기반기술개발사업단은 중국 시장 진출의 큰 걸림돌로 여겨지던 신원료 등록 과정을 성공적으로 마무리한 주요 성과로 평가했다.

피부기반기술개발사업단은 “국내 기업들이 개발한 혁신적인 화장품 소재가 안전성 자료 요구 등 수출 대상국 규제 문제로 인해 사용되지 못하는 사례가 많아 이를 활성화하기 위해 규제대응 평가기술 지원 분야를 운영하고 있다”며 “기업들에게 규제절차 대응에 필요한 시험‧분석을 지원하고 있는 만큼 이를 활용해 K-뷰티 수출에 기여하기를 바란다”고 밝혔다.

한농화성 관계자는 “이번 성과를 통해 국내 화장품 원료 기술력을 세계에 알리는 계기가 되었다”며, “중국으로의 포트폴리오를 확장하고 이를 토대로 글로벌 시장에서도 인정받는 기회를 마련할 방침”이라고 밝혔다.

데이터 GAP 분석, 시험 자료 생산, 안전성 평가 및 서류 작성 등 이번 등록과정을 전반적으로 담당한 리이치24시코리아 관계자도 “중국 신원료 등록 규제 경험이 축적되고 정부의 지속적인 지원이 이루어진다면 더 많은 국내 기업이 중국 시장에 재도전할 수 있을 것”이라고 전망했다.

한편, 중국은 자국 화장품 산업을 육성하기 위해 현지 기업이 화장품 신원료를 등록할 경우, 지방자치단체에서 50만~200만 위안 규모의 보조금을 지원하고 있다.

2024년까지 신원료 등록 건수는 전년 대비 약 49% 증가한 224건으로 이 중 해외 기업의 등록 건수는 43건으로 알려졌다.

Copyright ⓒ cmn.co.kr, 무단 전재 및 재배포 금지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지
  • 컨텐츠 이미지

뉴스레터뉴스레터구독신청

제휴사 cbo kantarworldpanel kieco
img img